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一种新型双Fin ESD防护单元研究
引用本文:成建兵,周嘉诚,刘立强,张效俊,孙旸. 一种新型双Fin ESD防护单元研究[J]. 微电子学, 2023, 53(2): 321-325
作者姓名:成建兵  周嘉诚  刘立强  张效俊  孙旸
作者单位:南京邮电大学 集成电路科学与工程学院, 南京 210023
基金项目:国家自然科学基金资助项目(61274080)
摘    要:为满足小尺寸器件的ESD防护需求,基于Fin技术,提出了一种具有寄生SCR的STI双Fin结构。通过采用双Fin布局和深掺杂技术,减小了器件的基区宽度,避免了Fin技术中由弱电导调制导致的SCR无法开启的现象。仿真结果表明,相比于DFSD结构,新结构失效电流It2/Wlayout从21.67 mA/μm增加到28.33 mA/μm;触发电压Vt1从14.08 V减小到9.64 V。在ESD来临时,新结构能够实现有效的开启,泄放大电流。

关 键 词:鳍式场效应晶体管  电导调制  深掺杂  静电放电
收稿时间:2022-03-11

Research on a Novel Double-Fin ESD Protection Unit
CHENG Jianbing,ZHOU Jiacheng,LIU Liqiang,ZHANG Xiaojun,SUN Yang. Research on a Novel Double-Fin ESD Protection Unit[J]. Microelectronics, 2023, 53(2): 321-325
Authors:CHENG Jianbing  ZHOU Jiacheng  LIU Liqiang  ZHANG Xiaojun  SUN Yang
Affiliation:College of Integrated Circuit Science and Engineering, Nanjing University of Posts and Telecommunications, Nanjing 210023, P. R. China
Abstract:
Keywords:FinFET   conductivity modulation   deep doping   ESD
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