| LSI版图曝光单元集的算法 |
| |
| 引用本文： | 王结钧. LSI版图曝光单元集的算法[J]. 微细加工技术, 1995, 0(1): 1-6 |
| |
| 作者姓名： | 王结钧 |
| |
| 作者单位： | 山东工业大学自动化工程系 |
| |
| 摘 要： | 本文给出划分一种ＬＳＩ版图设计图形为曝光单元集的一个算法。该算法可同时获正、反两种曝光单元集，为曝光方式的选择提供了灵活性。
|
| 关 键 词： | 算法；电子束曝光；微细加工；集成电路 |
ALGORITHM FOR EXPOSURE UNIT SET OF LSI RETICLE FIGURE |
| |
| Wang Shaojun. ALGORITHM FOR EXPOSURE UNIT SET OF LSI RETICLE FIGURE[J]. Microfabrication Technology, 1995, 0(1): 1-6 |
| |
| Authors: | Wang Shaojun |
| |
| Abstract: | The glgorithm qor partitioning LSI reticle figure into exposure unit set is given,It can get both positive and negative exposure unit sets, so that,the exposure method can be agilly selected. |
| |
| Keywords: | algorithm electron beam exposure microfabrication integrated circuit |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
