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| 同位素铁靶制备技术 | |
| 引用本文： | 许国基.同位素铁靶制备技术[J].原子能科学技术,2002,36(4):401-402,453. |
| 作者姓名： | 许国基 |
| 作者单位： | 中国原子能科学研究院,核物理研究所,北京,102413 |
| 摘 要： | 介绍了同位素铁靶的制备技术，包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备。采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑^56Fe靶的最小厚度分别为50和360μm/cm^2。 |
| 关 键 词： | 同位素铁靶 制备技术 氢气还原 滚轧 聚焦束溅射 氧化铁 熔化 |
| 文章编号： | 1000-6931(2002)04/05-0401-02 |
Techniques for Preparing Isotopic Iron Targets |
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