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| 日本东洋曹达公司研制出超大规模集成电路用的负型光刻胶 | |
| 作者姓名： | 徐京生 |
| 摘 要： | 东洋曹达工业公司研制成功了具有高感光度、高解像力、耐干腐性的,供超大规模集成电路用的负型光致抗蚀剂,从81年3月份起以(?)的商品牌号销售。该抗蚀剂是以聚苯乙烯为主要成份合成的,化学名为聚氯甲基苯乙烯。为了获得高解像力,光致抗蚀剂的原材料必需使用分子量分布极窄的聚合物。另 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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