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| 铸造多晶硅硅片的磷吸杂研究 | |
| 引用本文： | 唐骏,黄笑容,席珍强,杜平凡,姚剑,徐敏.铸造多晶硅硅片的磷吸杂研究[J].能源工程,2007(3):34-36. |
| 作者姓名： | 唐骏 黄笑容 席珍强 杜平凡 姚剑 徐敏 |
| 作者单位： | 1. 中国光电技术发展中心,浙江,杭州,310012 2. 杭州海纳半导体有限公司,浙江,杭州,310027 3. 浙江理工大学,材料研究中心,浙江,杭州,310018 |
| 基金项目： | 国家科技攻关项目;浙江省自然科学基金 |
| 摘 要： | 主要研究了铸造多晶硅晶锭不同位置的硅片在磷吸杂前后电学性能的变化.结果发现,经过870%磷吸杂40 min后不同位置处硅片的少数载流子寿命都有显著的提高,其中来自硅锭底部硅片的少数载流子寿命的提高程度明显低于来自顶部样品寿命的提高幅度.由于氧的分凝效应,在铸造多晶硅底部材料中含有较高浓度的间隙氧.结果表明,多晶硅磷吸杂的效果不仅与材料中过渡族金属的分布以及形态有关,而且还可能与硅中氧的浓度有关. |
| 关 键 词： | 多晶硅 磷吸杂 少子寿命 |
| 文章编号： | 1004-3950（2007）03-0034-03 |
| 修稿时间： | 2007-04-06 |
Phosphorous gettering of cast multicrystalline silicon wafers from different positions of the ingot |
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| TANG Jun, HUANG Xiao-rong, XI Zhen-qiang et al.Phosphorous gettering of cast multicrystalline silicon wafers from different positions of the ingot[J].Energy Engineering,2007(3):34-36. | |
| Authors: | TANG Jun HUANG Xiao-rong XI Zhen-qiang |
| Affiliation: | 1. China National PV Technology Development Center, Hangzhou 310012, China; 2. Hangzhou Haina semicondutor Co. ,Ltd, Hangzhou 310027, China; 3. Center of Materials Engineering, Zhejiang Sci-Tech University, Hangzhou 310018, China |
| Abstract: | |
| Keywords: | multicrystalline silicon gettering lifetime |
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