| 工作波长193纳米投影光刻物镜研究设计 |
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| 引用本文： | 陈旭南,罗先刚,林妩媚,余国彬.工作波长193纳米投影光刻物镜研究设计[J].微细加工技术,2001(2):24-26,52. |
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| 作者姓名： | 陈旭南 罗先刚 林妩媚 余国彬 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(69876041)和院长所长基金经费资助项目. |
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| 摘 要： | 介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜研究设计，对波长，数值孔径和分辨力的选择，光学结构型式的确定，以及材料和试制加工工艺的考虑，然后给出一个数值孔径NA＝0．62，光学结构为双远心的投影光刻物镜设计结果。
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| 关 键 词： | 激光光刻 光刻物镜设计 工作波长 投影光刻机 |
| 文章编号： | 1000-8213(2001)02-0024-04 |
Design of 193nm Projection lithography lens |
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| CHEN Xu-nan,LUO Xian-gang,LIN Wu-mei,YU Guo-bin.Design of 193nm Projection lithography lens[J].Microfabrication Technology,2001(2):24-26,52. |
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| Authors: | CHEN Xu-nan LUO Xian-gang LIN Wu-mei YU Guo-bin |
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| Abstract: | The design of 193nm projection lithography lens has been introduced.The selections of wavelength,numerical aperture and resolution have been given also.We provide the establishment of optical structure ,the consideration of material and fabricating process carefully.At last we give the result of a projection lithography lens with NA=0.62,which has bi-telecentric optical character. |
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| Keywords: | 193nm ArF laser lithography design of lithography lens |
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