|
|||||
|
|
| 8～14微米HgCdTe材料 | |
| 引用本文： | 培之.8～14微米HgCdTe材料[J].激光与红外,1980(11). |
| 作者姓名： | 培之 |
| 摘 要： | 本文首先简介国外8～14微米HgCdTe材料的发展和现状,然后介绍碲溶剂法、再结晶法和高压回流法等一些熔体生长方法和所得8～14微米材料的性能。最后,结合器件的应用,对8～14微米HgCdTe材料的发展前景作了简略估计。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《激光与红外》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《激光与红外》下载全文 | |
|
||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |