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| 基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究 | |
| 作者单位： | ;1.中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 摘 要： | 介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点，研究分析了双掩模光刻机的曝光方式，提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法，并通过生产线工艺验证及数据分析，得出通过该工艺曝光模式，满足生产线实际工艺要求。 |
| 关 键 词： | 双面光刻机 曝光方式 曝光工艺 真空复印 |
Study on Vacuum Duplication Mechanism and Process Based on Double-sided Mask Aligner |
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| Keywords: | |