一种无源真空吸附装置的研究 |
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引用本文: | 齐芊枫,李进春,张德峰. 一种无源真空吸附装置的研究[J]. 电子工业专用设备, 2022, 0(1): 57-63 |
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作者姓名: | 齐芊枫 李进春 张德峰 |
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作者单位: | 1.上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
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摘 要: | 为消除真空管路对高精密工件台的干扰,提出并开发了一种无气源、无管路干扰的真空吸附装置,采用与吸盘结构集成的机械驱动装置在常压环境中自动产生真空源,直接实现吸盘吸附硅片的功能,通过对该装置进行试验分析,结果表明,在60 s内可保持吸盘-40~-50 kPa的真空压力,可满足硅片在曝光过程中的吸附要求。
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关 键 词: | 工件台 无源真空 吸附装置 |
Study on Passive Vacuum Suction Device |
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