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| 某装备光学镜筒局部着黑色工艺设计 | |
| 引用本文： | 李俊英,彭刚.某装备光学镜筒局部着黑色工艺设计[J].郑州轻工业学院学报(自然科学版),2014(6). |
| 作者姓名： | 李俊英 彭刚 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第二十七研究所; |
| 摘 要： | 为解决某装备光学镜筒局部导电、局部硫酸阳极氧化着黑色的工艺技术难题,筛选出一套适合该装备光学镜筒局部表面处理的工艺方法,采用某涂覆液经3~5次涂覆成型,遮蔽层厚度为120μm,固化温度为93℃,固化时间为35 min.通过遮蔽层对导电表面与硫酸阳极氧化溶液的有效隔离,实现了对光学镜筒导电表面进行保护的目的,满足了该装备光学镜筒局部导电、局部硫酸阳极氧化着黑色的特殊使用要求. |
| 关 键 词： | 光学镜筒 着黑色 遮蔽层 |
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