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| 物理气相沉积制备高熵氮化物涂层的进展 | |
| 作者姓名： | 程驰 郭朝乾 李海庆 李剑微 曲帅杰 张程 林松盛 |
| 作者单位： | 1. 广东工业大学机电工程学院;2. 广东省科学院新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金（52101081）;;广东省科技计划（2021A1515010692）; |
| 摘 要： | 从体系和沉积方法入手,分析了强氮化金属元素体系、弱氮化金属元素体系及含非金属元素体系在结构上的特性和共性给高熵氮化物涂层性能带来的影响,阐述磁控溅射和电弧离子镀膜技术沉积涂层的表面形貌、微观结构及性能方面的差异性,并分别总结这些制备技术的优缺点。最后对高熵氮化物涂层体系在结构成分设计和沉积方法两方面未来的研究方向进行了展望。 |
| 关 键 词： | 高熵氮化物涂层 物理气相沉积 磁控溅射 电弧离子镀 力学性能 综述 |