钒含量对磁控溅射TiAlVN薄膜性能的影响

采用磁控溅射法在不同V靶功率下制得一系列不同V含量的TiAlVN膜。通过能谱分析、X射线衍射、硬度测量和高温退火研究了V原子分数对Ti Al VN膜成分、晶相结构、硬度和抗高温氧化性能的影响。结果表明,不同V含量的TiAlVN膜均为面心立方结构,呈TiN(111)面择优取向。随V原子分数的增大,TiAlVN膜的硬度增大,抗高温氧化性能变差。当V原子分数为16.96%(即磁控溅射的V靶功率为60 W)时,TiAlVN膜的硬度最高(为31.67 GPa),抗高温氧化性能较好。