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分类号
杂志ISSN号
磁控溅射工艺参数对TiAlN薄膜结构和性能影响规律研究
作者姓名:
李昌恒
刘奎仁
魏世丞
韩庆
王博
王玉江
作者单位:
1. 东北大学冶金学院;2. 陆军装甲兵学院装备再制造技术国防科技重点实验室
基金项目:
国家科技重大专项(2017-Ⅶ-0012-0109);
摘 要:
采用XRD、SEM、纳米压痕仪、纳米划痕仪等分析了磁控溅射工艺参数对TiAlN薄膜物相、微观组织、力学性能及结合力的影响规律。结果表明,所有样品生成相均为面心立方的TiAlN,且在(111)晶面择优生长,薄膜表面形成三棱锥状密排晶粒。选定硬度与结合力两个指标对TiAlN薄膜进行评价,通过正交实验发现,硬度与结合力的最优工艺参数均为基底偏压-100 V,工作气压0.3 Pa,溅射电流8 A,氮流量40 sccm。
关 键 词:
TiAlN薄膜
磁控溅射
工艺参数
正交实验
硬度
结合力
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