有机硅等离子体聚合薄膜制备及其强场特性研究

本文运用射频辉光放电的低温等离子体在基底上沉积出均匀，透明的聚六甲基二硅氧烷（ＨＭＤＳＯ）聚合膜，用红外光谱揭示材料的化学结构，通过击穿和伏安研究了等离子体聚合膜的强场特性，发现其导电机理为场助热离子跃迁，此外还分析了退火工艺对薄膜结构和击穿性能的影响。