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厚钛过渡层缓解铜基上热丝 CVD 金刚石薄膜内应力
引用本文:赵齐,代明江,韦春贝,邱万奇,侯惠君,谭笛. 厚钛过渡层缓解铜基上热丝 CVD 金刚石薄膜内应力[J]. 表面技术, 2013, 42(5): 19-23
作者姓名:赵齐  代明江  韦春贝  邱万奇  侯惠君  谭笛
作者单位:广州有色金属研究院, 广州 510651;华南理工大学 材料科学与工程学院, 广州 510640;广州有色金属研究院, 广州 510651;广州有色金属研究院, 广州 510651;华南理工大学 材料科学与工程学院, 广州 510640;广州有色金属研究院, 广州 510651;广州有色金属研究院, 广州 510651
基金项目:广东省科技计划项目(2011A081301003)
摘    要:以紫铜为基体,在紫铜上先采用磁控溅射技术镀一层金属钛,再以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在钛过渡层上合成金刚石薄膜,研究不同钛过渡层厚度对金刚石薄膜质量的影响。利用X射线(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)、扫描电镜(SEM)分析薄膜的结构、成分和表面形貌,用能谱仪(EDS)对热处理前后样品的表面进行了元素分析。研究发现,当钛过渡层厚度为3μm时,生成的金刚石薄膜受到较大内应力而发生破裂;当钛过渡层厚度为25μm时,金刚石薄膜质量较好,薄膜受一定内应力,但没有破裂;850℃左右保温热处理12 h,铜原子与钛原子发生了扩散。

关 键 词:金刚石薄膜  钛过渡层  内应力  热丝化学气相沉积
收稿时间:2013-05-25
修稿时间:2013-06-18

Thick Titanium Interlayer Remitting Stress in Diamond Films Deposited on Copper Substrate by Hot Filaments Chemical Vapor Deposition
ZHAO Qi,DAI Ming-jiang,WEI Chun-bei,QIU Wan-qi,HOU Hui-jun and TAN Di. Thick Titanium Interlayer Remitting Stress in Diamond Films Deposited on Copper Substrate by Hot Filaments Chemical Vapor Deposition[J]. Surface Technology, 2013, 42(5): 19-23
Authors:ZHAO Qi  DAI Ming-jiang  WEI Chun-bei  QIU Wan-qi  HOU Hui-jun  TAN Di
Affiliation:Guangzhou Research Institute of Non-ferrous Metals, Guangzhou 510651 , China;School of Materials Science and Engineering, South China University of Technology, Guangzhou 510640 , China;Guangzhou Research Institute of Non-ferrous Metals, Guangzhou 510651 , China;Guangzhou Research Institute of Non-ferrous Metals, Guangzhou 510651 , China;School of Materials Science and Engineering, South China University of Technology, Guangzhou 510640 , China;Guangzhou Research Institute of Non-ferrous Metals, Guangzhou 510651 , China;Guangzhou Research Institute of Non-ferrous Metals, Guangzhou 510651 , China
Abstract:
Keywords:diamond films   titanium interlayer   internal stress   hot filaments chemical vapor deposition
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