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自组织生长多层垂直耦合InAs量子点的研究
作者姓名:王志明  邓元明  封松林  吕振东  陈宗圭  王凤莲  徐仲英  郑厚植  高旻  韩培德  段晓峰
作者单位:[1]中国科学院半导体研究所 [2]中国科学院北京电子显微镜实验室
摘    要:本文报道了关于InAs/GaAs自组织生长多层垂直耦合量子点的研究结果.透射电子显微镜测量显示多层量子点在生长方向上成串排列,有些量子串会发生融和.还有些量子串生长不完全,也就是说包含的量子点个数少于InAs层数,并由此导致多层耦含量子点的光致发光谱具有高能带尾.

关 键 词:量子点 自组织生长 多层垂直耦合 砷化铟
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