| 射频磁控溅射法制备GZO:Ti薄膜的微结构及其光学性质 |
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| 引用本文： | 张腾,胡诚,谭兴毅,朱永丹.射频磁控溅射法制备GZO:Ti薄膜的微结构及其光学性质[J].光电子．激光,2017,28(11):1218-1223. |
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| 作者姓名： | 张腾 胡诚 谭兴毅 朱永丹 |
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| 作者单位： | 湖北民族学院 理学院,湖北 恩施 445000,湖北民族学院 理学院,湖北 恩施 445000,湖北民族学院 理学院,湖北 恩施 445000,湖北民族学院 信息工程学院,湖北 恩 施 445000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(11504101,11364018)资助项目 (1.湖北民族学院 理学院,湖北 恩施 445000； 2.湖北民族学院 信息工程学院,湖北 恩施 445000) |
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| 摘 要： | 采用射频(RF)磁控溅射工艺于玻璃衬底沉积了镓钛 共掺杂氧化锌(GZO:Ti)半导体薄膜,研究了沉积 温度对薄膜微观结构和光学性质的影响。通过X射线衍射仪(XRD)和紫外分光光度计对其晶体 结构和透射光谱特 性进行表征,同时利用光谱拟合法获取了薄膜的光学常数。研究结果表明,所有薄膜均具备 六角纤锌矿结 构和c轴择优取向特性,沉积温度对薄膜的微结构参数、光学 常数和光学带隙具有明显调控作用,当沉积 温度为653K时,GZO:Ti薄膜的晶粒尺寸最大(82.12nm)、位错密度最低(1.48×10－4 nm－2) 、微应变最小(0.001)、可见光区平均透射 率 最高(82.06%)及光学带隙值最大(3.57eV )。
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| 关 键 词： | 镓钛共掺杂氧化锌(GZO:Ti)薄膜 磁控溅射 微结构 光学性质 |
| 收稿时间： | 2017/3/4 0:00:00 |
Microstructure and optical properties of GZO:Ti thin films prepared by RF magnet ron sputtering |
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| ZHANG Teng,HU Cheng,TAN Xing-yi and ZHU Yong-dan.Microstructure and optical properties of GZO:Ti thin films prepared by RF magnet ron sputtering[J].Journal of Optoelectronics·laser,2017,28(11):1218-1223. |
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| Authors: | ZHANG Teng HU Cheng TAN Xing-yi and ZHU Yong-dan |
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| Affiliation: | School of Science,Hubei University for Nationalities,Enshi 445000,China,School of Science,Hubei University for Nationalities,Enshi 445000,China,School of Science,Hubei University for Nationalities,Enshi 445000,China and Sc hool of Information Engineering,Hubei University for Nationalities,Enshi 445000,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | gallium and titanium co-doped zinc oxide (GZO:Ti) thin film magnetron sputteri ng microstructure optical properties |
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