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磁控溅射用难熔金属靶材制作、应用与发展
摘 要:
随着磁控溅射技术应用日益广泛,难熔金属靶材需求不断增大。就难熔金属靶材应用、制备及发展进行总结和探讨,分析了制作过程中致密度、纯度、晶粒尺寸及结晶取向对靶材性能的影响,并对难熔金属靶材的发展趋势进行展望。
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