| 沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响 |
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| 引用本文： | 张永熙,沈杰,杨锡良. 沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响[J]. 真空科学与技术学报, 2000, 20(1) |
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| 作者姓名： | 张永熙 沈杰 杨锡良 |
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| 作者单位： | 复旦大学材料科学系!上海200433 |
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| 摘 要： | 在玻璃基板上用直流反应磁控溅射钛靶的方法制备TiO2 薄膜。在溅射总气压为 0 4Pa ,氧氩比分别为 1∶9,1∶5及 1∶3 2的情况下 ,调节溅射功率使沉积速率由 0 99nm/min变化到 12 12nm/min ,而且当基板温度为 34 0℃时 ,薄膜在可见光范围内的平均折射率基本不变 ,为 2 48± 0 0 3,而薄膜的表面形貌却有明显变化。XRD表明 ,在pO2 /pAr为 1∶9的条件下 ,薄膜中出现了TiOx(x <2 )的晶粒 ,但这对薄膜的光学性质并无影响。另外对TiO2 薄膜用于多层光学薄膜也作了初步试验及讨论
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| 关 键 词： | 二氧化钛薄膜 反应磁控溅射 沉积速率 折射率 晶体结构 |
Influence of Deposition Rate and Relative Parameters on Properties of TiO_2 Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering |
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| Zhang Yongxi,Shen Jie,Yang Xiliang,Chen Huaxian,Lu Ming,Yan Xuejian,Zhang Zhuangjian. Influence of Deposition Rate and Relative Parameters on Properties of TiO_2 Thin Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2000, 20(1) |
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| Authors: | Zhang Yongxi Shen Jie Yang Xiliang Chen Huaxian Lu Ming Yan Xuejian Zhang Zhuangjian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Titanium dioxide thin films Reactive magnetron sputtering Deposition rate Refractive index Crystalline structure |
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