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汽相沉积薄膜结构均匀性的理论分析
作者姓名:张伟 苌国强
作者单位:哈尔滨工业大学 哈尔滨市150006(张伟),哈尔滨工业大学 哈尔滨市150006(苌国强)
摘    要:正切规则已经给出了蒸发角和蒸镀膜的微柱体结构的生长方向的关系。根据正切规 则和蒸发源与基片的相对几何三角关系,本文针对四种通用类型的夹具,给出了薄膜微 柱体结构均匀性的理论分布公式,计算了不同情况下结构均匀性的理论分布曲线。同 时,分析和讨论了薄膜的结构模型,并且得到并证实了在旋转球面夹具下获得的薄膜的 结构是最佳的结论。

关 键 词:汽相沉积 薄膜 半导体 镀膜
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