气相色谱法应用于半导体硅材料制备工艺中碳的测定期刊界 All Journals 搜尽天下杂志传播学术成果专业期刊搜索期刊信息化学术搜索

气相色谱法应用于半导体硅材料制备工艺中碳的测定

摘要：	由于大规模集成电路对硅单晶的质量要求十分严格,其中杂质碳的影响不容忽视。在工艺流程中,为了控制碳的污染,对多晶硅制备还原用电解净化氢气以及单晶硅制备所需的高纯氩气分别采用气相色谱法和浓缩色谱法测定量含碳组分。然而对工艺重要中间产品-SiHCl_3中有机物碳的质量控制犹关重要。国外采用化学法直接测定碳量,但对有机物存在形态未能鉴别。峨嵋半导体材料
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