Mo/Si多层膜界面离子束处理及TEM观察 |
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引用本文: | 薛钰芝 Schla.,R.Mo/Si多层膜界面离子束处理及TEM观察[J].电子显微学报,1994,13(6):466-466. |
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作者姓名: | 薛钰芝 Schla. R |
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作者单位: | 大连铁道学院 |
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摘 要: | Mo/Si多层膜界面离子束处理及TEM观察薛钰芝R.Schlatmann,林纪宁A.Keppel,J.Verhoeven(大连铁道学院,大连116022)(荷兰FOM原子分子物理研究所)软X射线多层膜(MultilayersforSoftX-rayO...
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关 键 词: | 薄膜 多层膜 钼 硅 界面 离子束处理 TEM |
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