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| Mo／Si多层膜界面离子束处理及TEM观察 | |
| 作者姓名： | 薛钰芝 Schla. R |
| 作者单位： | 大连铁道学院 |
| 摘 要： | Ｍｏ／Ｓｉ多层膜界面离子束处理及ＴＥＭ观察薛钰芝Ｒ．Ｓｃｈｌａｔｍａｎｎ，林纪宁Ａ．Ｋｅｐｐｅｌ，Ｊ．Ｖｅｒｈｏｅｖｅｎ（大连铁道学院，大连１１６０２２）（荷兰ＦＯＭ原子分子物理研究所）软Ｘ射线多层膜（ＭｕｌｔｉｌａｙｅｒｓｆｏｒＳｏｆｔＸ－ｒａｙＯ... |
| 关 键 词： | 薄膜 多层膜 钼 硅 界面 离子束处理 TEM |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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