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退火温度对BZT薄膜微结构的影响研究
引用本文:郭冬娇,刘行冰,张玉芹,周妮妮,邓小玲. 退火温度对BZT薄膜微结构的影响研究[J]. 重庆科技学院学报(自然科学版), 2011, 13(1): 123-124
作者姓名:郭冬娇  刘行冰  张玉芹  周妮妮  邓小玲
作者单位:重庆科技学院,重庆,401331
基金项目:重庆科技学院大学生科技创新项目
摘    要:采用Sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Ba(Zr0.2Ti0.8)O3(BZT)薄膜.X射线衍射分析表明,该BZT薄膜为钙钛矿结构而无其他物相存在.光学显微镜分析结果表明,退火温度为900℃时,BZT薄膜表面光滑平整,无裂纹产生.

关 键 词:溶胶-凝胶  BZT薄膜  退火温度:微结构

Effect of Annealing Temperature on Microstructure of BZT Film
GUO Dong-jiao,LIU Xing-bing,ZHANG Yu-qin,ZHOU Ni-ni,DENG Xiao-ling. Effect of Annealing Temperature on Microstructure of BZT Film[J]. Journal of Chongqing University of Science and Technology:Natural Science Edition, 2011, 13(1): 123-124
Authors:GUO Dong-jiao  LIU Xing-bing  ZHANG Yu-qin  ZHOU Ni-ni  DENG Xiao-ling
Affiliation:(Chongqing University of Science and Technology,Chongqing 401331)
Abstract:
Keywords:
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