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| 金刚石化学机械抛光垫修整器的发展方向与前景（上） | |
| 引用本文： | T．Ohi 姜荣超.金刚石化学机械抛光垫修整器的发展方向与前景（上）[J].工业金刚石,2005(1):28-30. |
| 作者姓名： | T．Ohi 姜荣超 |
| 作者单位： | [1]旭日（Asahi）金刚石工业公司，日本 [2]不详 |
| 摘 要： | 半导体芯片的生产主要依靠化学机械抛光(CMP)工序使硅片表面平坦化，使复杂的集成电路能非常有效地工作。做为电路设计不可避免地趋向于采用高度集成和多层结构。故化学机械抛光技术必须紧跟其需要与发展。化学机械抛光垫性能的关键是采用金刚石化学机械抛光垫修整器工作时，抛光垫工作寿命期间，必须保持恒定的抛光效果。 |
| 关 键 词： | 修整器 化学机械抛光 抛光效果 金刚石 表面 石化 工序 发展方向 技术 生产 |
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