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粉末靶磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的特性
引用本文:刘思宁,周艳文,吴川,吴法宇.粉末靶磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电薄膜的特性[J].半导体技术,2015,40(12):937-943.
作者姓名:刘思宁  周艳文  吴川  吴法宇
作者单位:辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051;辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051;辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051;辽宁科技大学材料与冶金学院,辽宁鞍山,114051
基金项目:国家自然科学基金资助项目,辽宁省高等学校优秀人才支持计划资助项目
摘    要:室温下采用射频磁控溅射粉末靶,在玻璃基底上制备了掺铝氧化锌/银/掺铝氧化锌(AZO/Ag/AZO)三层透明导电薄膜.通过优化中间银层厚度,优化了三层透明导电薄膜的光电性能.采用原子力显微镜和X射线衍射仪分别对薄膜的形貌和结构进行检测分析;采用紫外可见分光光度计和霍尔效应仪分别对薄膜的光电性能进行检测分析.结果表明,所制备的三层膜表面平整,颗粒大小错落均称;三层膜呈现多晶结构,AZO层薄膜具有(002)择优取向的六方纤锌矿结构,Ag层薄膜具有(111)择优取向的立方结构;当三层薄膜为AZO (20 nm) /Ag(12 nm) /AZO (20 nm)时,在550 nm处的透光率为88%,方块电阻为4.3Ω/□,电阻率为2.2×10-5 Ω·cm,载流子浓度为2.8×1022/cm3,迁移率为10 cm2/ (V·s),品质因子为3.5×10-2 Ω-1.

关 键 词:AZO/Ag/AZO  多层透明导电薄膜  六方纤锌矿结构  粉末靶  射频磁控溅射

Properties of the AZO/Ag/AZO Transparent Conductive Films Prepared by Magnetron Sputtering Using Powder Targets
Abstract:
Keywords:AZO/Ag/AZO  transparent conductive multilayer film  hexagonal wurtzite structure  powder target  RF magnetron sputtering
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