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WS2量子点边缘结构和形貌的第一性原理计算
引用本文:沈涛,梁培,陈欣平,历强. WS2量子点边缘结构和形貌的第一性原理计算[J]. 半导体技术, 2015, 40(9): 679-683. DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2015.09.009
作者姓名:沈涛  梁培  陈欣平  历强
作者单位:中国计量学院光学与电子科技学院,杭州,310018;横店集团得邦照明股份有限公司,浙江金华,321000
摘    要:WS2属于过渡金属二硫化物中的重要一员,在纳米材料及光电领域均有广阔的应用前景.WS2的低维结构性质能随其边缘结构和形貌的变化而变化.使用第一性原理计算边缘形成能并结合Wullf Construction规则计算,发现当化学势条件处于富S时(-1.14~0 eV),W-S边缘是最稳定的边缘结构,而当化学势变为富W时(-1.34~-1.14 eV),S边缘是最稳定的边缘结构.WS2量子点在形状上可以实现从三角形、六边形到十二边形的变化.该研究可以较好地解释在实验上观测到的结果.

关 键 词:WS2  量子点  边缘形貌  边缘形成能  Wullf Construction规则  第一性原理

First Principles Calculations of the Edge Structure and Morphology of WS2 Quantum Dots
Abstract:
Keywords:WS2  quantum dot  edge morphology  edge formation energy  Wullf Construction rule  first principles
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