| 重复图案晶片自动检测新方法 |
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| 引用本文： | 吴黎明,崔山领,王立萍,刘润予. 重复图案晶片自动检测新方法[J]. 光学精密工程, 2008, 16(5) |
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| 作者姓名： | 吴黎明 崔山领 王立萍 刘润予 |
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| 作者单位： | 广东工业大学,信息工程学院,广东,广州,510006 |
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| 摘 要： | 针对具有重复图案阵列的IC晶片结构特征,提出了一种基于旋转不变子空间技术(ESPRIT)算法的自比较模板匹配缺陷检测方法.应用ESPRIT算法精确计算出重复图案中结构块的大小,然后将图像中所有结构块对应位置的像素值平均,计算出标准结构块.再根据显微镜视野大小扩展标准结构块形成标准模板,通过比对实现缺陷检测.实验结果表明:采用ESPRIT算法求取结构块大小,具有较高的速度和精度,能够满足IC检测实时性要求.算法的计算复杂度为O(N3/2),精度可达到0.04 pixel.
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| 关 键 词： | IC晶片 自比较模板匹配 自动检测 ESPRIT算法 |
Novel automatic inspection method for repetitive patterned wafer |
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| WU Li-ming,CUI Shan-ling,WANG Li-ping,LIU Run-yu. Novel automatic inspection method for repetitive patterned wafer[J]. Optics and Precision Engineering, 2008, 16(5) |
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| Authors: | WU Li-ming CUI Shan-ling WANG Li-ping LIU Run-yu |
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