| 护环对硅片抛光表面压强分布和轮廓的影响 |
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| 引用本文： | 吕玉山,王军,张辽远,冯连东. 护环对硅片抛光表面压强分布和轮廓的影响[J]. 光学精密工程, 2008, 16(4) |
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| 作者姓名： | 吕玉山 王军 张辽远 冯连东 |
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| 作者单位： | 沈阳理工大学,机械工程学院,辽宁,沈阳,110168 |
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| 摘 要： | 为了获得单晶硅片化学机械抛光过程中护环对接触压强分布的影响规律,从有护环化学机械抛光实际出发,建立了抛光过程的接触力学模型和边界条件,利用有限元法对有护环抛光接触状态时的接触压强分布进行了计算和分析,并利用抛光实验对计算获得结果进行了验证.获得了硅片与抛光垫问的接触表面压强分布形态,以及护环几何参数对压强分布的影响规律.确定了护环抛光接触压强的分布也存在不均匀性,而且在硅片外径邻域内接触压强最大,并导致被加工硅片产生平面度误差和塌边.结果表明,当选择护环与硅片的间隙为0,负载比为2.5～3.5,以及适当的护环宽度时,可以改善接触压强分布的均匀性.
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| 关 键 词： | 化学机械抛光 单晶硅片 接触压强分布 平面度误差 |
Effect of retaining ring on pressure distribution and profile of polishing wafer surface |
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| LV Yu-shan,WANG Jun,ZHANG Liao-yuan,FENG Lian-dong. Effect of retaining ring on pressure distribution and profile of polishing wafer surface[J]. Optics and Precision Engineering, 2008, 16(4) |
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| Authors: | LV Yu-shan WANG Jun ZHANG Liao-yuan FENG Lian-dong |
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