| 工作气压对氮化硼薄膜场发射特性的影响 |
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| 引用本文： | 顾广瑞,吴宝嘉,金哲,郭振平,赵永年. 工作气压对氮化硼薄膜场发射特性的影响[J]. 延边大学学报(自然科学版), 2003, 29(4): 246-249 |
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| 作者姓名： | 顾广瑞 吴宝嘉 金哲 郭振平 赵永年 |
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| 作者单位： | [1]延边大学理工学院物理系，吉林延吉133002 [2]吉林大学超硬材料国家重点实验室，吉林长春130012 |
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| 摘 要： | 利用射频磁控溅射方法，在n型(100)Si基底上沉积了氮化硼(BN)薄膜，并在超高真空系统中测量了BN薄膜的场发射特性．研究发现，沉积时工作气压的变化对BN薄膜的场发射特性有很大影响，工作气压为2Pa时沉积的BN薄膜样品的场发射特性较好，其阈值电场为6V/μm，场发射电流为320μA／cm^2．F—N曲线表明，在外加电场的作用下，电子是通过隧道效应穿透BN薄膜表面势垒发射到真空的．
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| 关 键 词： | 工作气压 氮化硼薄膜 场发射 射频磁控溅射方法 冷阴极 |
| 文章编号： | 1004-4353(2003)04-0246-04 |
| 修稿时间： | 2003-08-28 |
Influence of work gas pressure on field emission characteristics for BN thin films |
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| GU Guang-rui,WU Bao-jia,JIN Zhe,GUO Zhen-ping,ZHAO Yong-nian. Influence of work gas pressure on field emission characteristics for BN thin films[J]. Journal of Yanbian University (Natural Science), 2003, 29(4): 246-249 |
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| Authors: | GU Guang-rui WU Bao-jia JIN Zhe GUO Zhen-ping ZHAO Yong-nian |
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| Affiliation: | GU Guang-rui~1,WU Bao-jia~1,JIN Zhe~1,GUO Zhen-ping~1,ZHAO Yong-nian~2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | BN thin films Field emission Work gas pressure |
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