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硅外延片晶体缺陷的研究

作者姓名：	郭起志徐振声乔保国

作者单位：	东北工学院，东北工学院，东北工学院

摘要：	本文采用金相显微镜和X射线形貌术研究硅外延层晶体缺陷的问题。实验结果表明:外延层中存在有层错,其分布不均匀,并从X射线形貌相中分析出层错的形式。
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