| 溅射沉积法制备金薄膜的结构特性 |
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| 引用本文： | 关博,江勇,许小亮.溅射沉积法制备金薄膜的结构特性[J].功能材料,2004,35(Z1):3238-3242. |
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| 作者姓名： | 关博 江勇 许小亮 |
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| 作者单位： | 1. 中国科技大学,少年班,安徽,合肥,230026;中科院结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026
2. 中国科技大学,物理系,安徽,合肥,230026;中科院结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026 |
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| 基金项目： | 863项目(2002AA313030);安徽省人才基金项目(2003Z021) |
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| 摘 要： | 在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构.随着厚度的增加,薄膜晶粒要经历成核、正常晶粒生长和反常晶粒生长过程,在不同的过程中Au膜呈现出不同的表面形貌.在正常晶粒生长阶段,薄膜晶粒呈柱状生长;随后的反常晶粒生长过程中会出现晶粒吸收现象,使具有较优取向的晶粒越长越大.X射线衍射图(XRD)显示Au膜具有(111)面取向优势.利用LSW理论模型计算并解释了晶粒反常生长过程.
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| 关 键 词： | 表面形貌 正常晶粒生长 反常晶粒生长 LSW理论模型 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-3238-05 |
| 修稿时间： | 2004年2月21日 |
Microstructure of Au film prepared by sputter deposition |
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| GUAN Bo,JIANG Yong,XU Xiao-liang.Microstructure of Au film prepared by sputter deposition[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):3238-3242. |
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| Authors: | GUAN Bo JIANG Yong XU Xiao-liang |
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