| 离子注入技术及其在ZnO薄膜掺杂中的应用 |
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| 引用本文： | 朱仁江. 离子注入技术及其在ZnO薄膜掺杂中的应用[J]. 重庆科技学院学报(自然科学版), 2008, 10(1): 40-42 |
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| 作者姓名： | 朱仁江 |
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| 作者单位： | 重庆师范大学,重庆,400047 |
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| 基金项目： | 重市高校光学工程重点实验室开放课题基金 |
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| 摘 要： | 离子注入是将具有高动能的掺杂离子引入到半导体中的一种工艺,其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型.将离子注入技术用于ZnO薄膜p型掺杂,其可重复性和稳定性良好.
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| 关 键 词： | 离子注入 ZnO薄膜 p型 |
| 文章编号： | 1673-1980(2008)01-0040-03 |
| 修稿时间： | 2007-09-19 |
Ion Implantation Technology and Application in ZnO Film Doping |
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| ZHU Ren-jiang. Ion Implantation Technology and Application in ZnO Film Doping[J]. Journal of Chongqing University of Science and Technology:Natural Science Edition, 2008, 10(1): 40-42 |
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| Authors: | ZHU Ren-jiang |
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