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| 微波等离子体CVD合成金刚石薄膜的生长特性 | |
| 引用本文： | 冉均国,郑昌琼,黄杰,唐霞,尹光福,何锦涛,胡英,芶清泉.微波等离子体CVD合成金刚石薄膜的生长特性[J].微细加工技术,1990(Z1). |
| 作者姓名： | 冉均国 郑昌琼 黄杰 唐霞 尹光福 何锦涛 胡英 芶清泉 |
| 作者单位： | 成都科技大学 (冉均国，郑昌琼，黄杰，唐霞，尹光福，何锦涛，胡英)，成都科技大学(芶清泉) |
| 摘 要： | 本文研究了微波等离子体合成金刚石薄膜的工艺参数对成核和生长过程的影响。讨论了表面过程机理,找出了较佳工艺条件,合成出直径为φ23毫米晶形完整、均匀致密的金刚石薄膜。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |