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| 离子溅射技术对增透膜性能的影响 | |
| 引用本文： | 王英剑,宋永香.离子溅射技术对增透膜性能的影响[J].激光与光电子学进展,2001(9):56-56. |
| 作者姓名： | 王英剑 宋永香 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所, |
| 摘 要： | 在薄膜的制备方面,目前有三大技术比较流行:电子枪(真空蒸发的主要方法)、离子辅助(离子镀技术)和离子束溅射(溅射技术的方法之一).对于这三种技术的一般特性,各种文献中都有介绍和说明,但对于薄膜的具体性能的影响则报导很少.我们曾研究了离子辅助沉积技术对薄膜性能的影响,本文是对该研究的补充,着重研究离子束溅射技术对制备增透膜性能的影响,如薄膜的表面形貌、薄膜的折射率、薄膜的弱吸收等,并对比在这几种工艺条件下制备的薄膜性能的优缺点,指出离子束溅射技术的固有特点和在制备薄膜产品中的局限性.本文在对薄膜性能的分析中采用了新的分析手段,如原子力显微镜、表面热透镜技术、X射线衍射技术.(OH13) |
| 关 键 词： | 离子溅射技术 增透膜 薄膜 |
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