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SOI MOSFETI-V特性的计算机模拟
引用本文:王煜,张鹏飞,侯东彦,钱佩信,罗台秦. SOI MOSFETI-V特性的计算机模拟[J]. 电子学报, 1995, 0(2)
作者姓名:王煜  张鹏飞  侯东彦  钱佩信  罗台秦
作者单位:清华大学微电子所,香港科技大学电机电子工程系
基金项目:高等学校博士学科点专项科研基金,国家基础性研究重大关键项目,计划(攀登计划)研究课题
摘    要:本文研究了SOIMOSFET的I-V特性,建立了一套模拟SOI器件工作特性的解析模型,适用于不同的SOI膜厚和各种前、背栅的偏置情况,在各种不同情况下由计算机自动选择适当模型进行拟合,该模型物理意义明确,计算简便快速,所用参数易于提取。

关 键 词:计算机模拟,SOI/MOS器件

Computer Simulation of I-V Characteristics of SOI MOSFET
Wang Yu,Zhang Pengfei, Hou Dongyan,Tsien Peihsin. Computer Simulation of I-V Characteristics of SOI MOSFET[J]. Acta Electronica Sinica, 1995, 0(2)
Authors:Wang Yu  Zhang Pengfei   Hou Dongyan  Tsien Peihsin
Abstract:The I-V characteristics of SOI MOSFET are studied and an analytic model for SOI MOS devices is established.The model,which is valid for any SOI film thickness and each kind of front/back-gate bias conditions,has such advantages as analytic expression,clear physical meaning,simple and quick calculation,and easy extraction of used parameters.For each SOI film thickness or back gate bias,the suitable expression will be adopted automatically by the computer.The simulation results are well consistent with the experimental data.
Keywords:Computer simulation  SOI/MOSFET
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