| 氮在离子氮碳共渗中的作用 |
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| 引用本文： | 孙定国,赵程,韩莉.氮在离子氮碳共渗中的作用[J].真空,2004,41(1):13-15. |
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| 作者姓名： | 孙定国 赵程 韩莉 |
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| 作者单位： | 1. 青岛科技大学表面技术研究所,山东,青岛,266042
2. 海军航空工程学院青岛分院一系,山东,青岛,266042 |
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| 摘 要： | 研究了在离子氮碳共渗过程中氮对化合物层厚度的影响,同时对化合物层的微观组织结构和显微硬度进行了分析.结果表明:在离子氮碳共渗过程中,气氛中低氮势不利于ε相的生成,且渗层的显微硬度较低;高氮势有利于ε相的生成,同时提高了渗层的显微硬度;当氮势超过60%后对化合物层厚度影响不大.
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| 关 键 词： | 离子氮碳共渗 氮势 化合物层 厚度 |
| 文章编号： | 1002-0322(2004)01-0013-03 |
Effect of nitrogen in plasma nitrocaburizing process |
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| SUN Ding-guo,ZHAO Cheng,HAN Li.Effect of nitrogen in plasma nitrocaburizing process[J].Vacuum,2004,41(1):13-15. |
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| Authors: | SUN Ding-guo ZHAO Cheng HAN Li |
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| Affiliation: | SUN Ding-guo~1,ZHAO Cheng~1,HAN Li~2 |
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| Abstract: | The influence of nitrogen on the thickness of compound layer in plasma nitrocarburizing process was investigated. The microstucture and microhardness of compound layer were analyzed. The experiment results show that high nitrogen potential in atmosphere can increase the compound layer thickness while low nitrogen potential in atmosphere will decrease the compound layer thickness and hardness. But excessive nitrogen has no influence on the thickness of compound layer. |
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| Keywords: | plasma nitrocarburizing nitrogen potential compound layer thickness |
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