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硅基PZT铁电薄膜的界面和表面研究
引用本文:张林涛,任天令,刘理天,李志坚,张琪,朱静.硅基PZT铁电薄膜的界面和表面研究[J].压电与声光,2000,22(5):316-318.
作者姓名:张林涛  任天令  刘理天  李志坚  张琪  朱静
作者单位:1. 清华大学,微电子所,北京,100084
2. 清华大学,材料科学与工程研究院,北京,100084
基金项目:国家自然科学基金资助项目! (6 980 6 0 0 7)
摘    要:用高分辨岸民镜等手段研究了溶胶-凝胶(Sol-Gel)工艺制备的硅基Pb(Zr,Ti)O3(PZT)铁电薄膜,发现在PZT的上表面生成了SiO2,PZT与硅衬底的界面处形成了无定型的SiOx层并有铅的沉积,而且热处理温度越高,这种现象越显著。这些结构严重影响了PZT铁电薄膜的品质及其应用。在分析上述结构产生机制的基础上提出了Sol-Gel工艺的改进方法。

关 键 词:高分辨透射电镜  溶胶-凝胶  PZT  铁电薄膜  硅基

Interface and Surface Studies of Silicon-based PZT Thin Films
ZHANG Lin-tao,REN Tian-ling,LIU Li-tian,LI Zhi-jian,ZHANG Qi,ZHU Jing.Interface and Surface Studies of Silicon-based PZT Thin Films[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2000,22(5):316-318.
Authors:ZHANG Lin-tao  REN Tian-ling  LIU Li-tian  LI Zhi-jian  ZHANG Qi  ZHU Jing
Abstract:Structures of the silicon-based Pb(Zr, Ti)O 3(PZT) thi n films were investigated by high resolu tion transmission electron microscopy (H RTEM) and other methods. A silicon dioxi de layer was found at the PZT surface. A n amorphous silicon oxide layer and lead deposition appeared at the PZT/Si inter face. These structures. which heavily af fected the properties and the applicatio ns of the PZT thin films, became more se rious as the annealing temperature incre ased. the idea to improve the Sol-Gel me thod was proposed based on the formation -mechanism analysis of the micro structu res.
Keywords:high  resolution  transmission  electron  microscopy(HRTEM)  Sol-Gel  PZT  ferroelectric  thin  film
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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