| 简易匀胶机系统研制与应用 |
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| 引用本文： | 周志近. 简易匀胶机系统研制与应用[J]. 现代显示, 2009, 20(6): 41-44 |
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| 作者姓名： | 周志近 |
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| 作者单位： | 中北大学,山西,太原,030051;南京信息职业技术学院,江苏,南京,210046 |
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| 摘 要： | 主要就简易匀胶机系统的结构设计、控制电路设计、技术特点、工作原理、性能、应用场合、影响质量的关键因素等进行了阐述。
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| 关 键 词： | 匀胶机 涂胶 光刻 |
| 收稿时间： | 2009-03-10 |
The research and application of simple spin-coater system |
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| ZHOU Zhi-jin. The research and application of simple spin-coater system[J]. Advanced Display, 2009, 20(6): 41-44 |
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| Authors: | ZHOU Zhi-jin |
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| Affiliation: | ZHOU Zhi-jin (University of North shanxi taiyuan 030051;nanjing college of information technology jiangsu nanjing 210046) |
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| Abstract: | This paper mainly absorbed on the simple structure of gel system design，circuit control design，technical features，working principle，performance，applications，the key factors affecting the quality． |
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| Keywords: | spin coater coating photoresist |
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