| 原子光刻及关键技术分析 |
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| 引用本文： | 张文涛.原子光刻及关键技术分析[J].激光与红外,2006,36(6):427-430. |
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| 作者姓名： | 张文涛 |
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| 作者单位： | 桂林电子科技大学,广西,桂林,541004 |
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| 摘 要： | 文章对原子光刻进行了深入的分析，介绍了其基本概念、工作机理、相关实验方案，针对原子光刻的原子捕获、激光稳频、原子束聚焦和沉积等关键技术，进行了分析和探讨。
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| 关 键 词： | 原子光刻 纳米结构 原子捕获 激光稳频 原子束沉积 |
| 文章编号： | 1001-5078（2006）06-0427-04 |
| 收稿时间： | 2005-11-23 |
| 修稿时间： | 2005-11-23 |
The Analysis of Key Technologies in Atom Lithography |
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| ZHANG Wen-tao.The Analysis of Key Technologies in Atom Lithography[J].Laser & Infrared,2006,36(6):427-430. |
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| Authors: | ZHANG Wen-tao |
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| Affiliation: | GuiLin University of Electronic Technology, Guilin 541004, China |
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| Abstract: | In this paper, we analyse deeply the atom lithography, and give out the basic principium and the project chart of the experiment. At the same time, in this paper we analyse some key technologies of the atom capture, the frequency stabilize, atom beams focus and sediment in atom lithography. |
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| Keywords: | atom lithography nanometer structure atom seizure laser steady frequency atom sediment |
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