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InGaAs/AlGaAs 941 nm高功率半导体激光二极管阵列
引用本文:辛国锋 花吉珍 陈国鹰 康志龙 冯荣珠 安振峰. InGaAs/AlGaAs 941 nm高功率半导体激光二极管阵列[J]. 光电子.激光, 2003, 14(7): 698-700
作者姓名:辛国锋 花吉珍 陈国鹰 康志龙 冯荣珠 安振峰
作者单位:1. 河北工业大学信息工程学院微电子所,天津,300130;中国电子科技集团公司电子第十三研究所光电专业部,河北,石家庄,050051
2. 中国电子科技集团公司电子第十三研究所光电专业部,河北,石家庄,050051
3. 河北工业大学信息工程学院微电子所,天津,300130
摘    要:利用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)技术生长了InGaAs/GaAs/AlGaAs分别限制应变单量子阱激光器材料。利用该材料制成半导体激光器线阵的峰值波长为941nm,光谱的半高全宽(FWHM)为3.3nm,在400μs、50Hz的输入电流下,输出峰值功率达到67.9W,斜率效率高达0.85W/A(64%)。

关 键 词:金属有机化合物气相淀积 MOCVD 半导体激光器 分别限制结构 单量子阱 激光二极管
文章编号:1005-0086(2003)07-0698-03
修稿时间:2002-12-23

InGaAs/AlGaAs 941 nm High Output Power Semiconductor Laser Diode Arrays
Abstract:
Keywords:metal organic chemical vapor deposition(MOCVD)  semiconductor laser array  separated confinement heterostructure  single quantum well
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