| 离子束溅射淀积铬薄膜沉积速率的分布 |
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| 引用本文： | 王宜荣,陈锦.离子束溅射淀积铬薄膜沉积速率的分布[J].微细加工技术,1991(2):48-52. |
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| 作者姓名： | 王宜荣 陈锦 |
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| 作者单位： | 航空航天工业部成都发动机公司 610067
(王宜荣，陈锦，谢乐，何恒，李沅)，航空航天工业部成都发动机公司 610067(何称烈) |
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| 摘 要： | 本文介绍采用石英晶体测厚仪测得铬靶不同方位上的溅射沉积速率,试验结果表明不同方位上的沉积速率为正态分布,其表达式为 y=66exp-(X-74.18)~2/2×2×33.93~2 当溅射入射角为45°时,其分布峰值在74.18°,不在45°的反射方向上。而溅射沉积速率与接收距离平方成反比,其表达式为 y=-45.8+19686.3(1/X)-249430(1/X~2)
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| 关 键 词： | 离子束溅射 淀积 铬薄膜 沉积速率 |
DISTRIBUTION OF Cr FILM DEPOSITION RATE FOR ION BEAM SPUTTERING |
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| Wang Yirong,Chen Jin,Xie Le,He Heng,Li Yuan and He Chenglie.DISTRIBUTION OF Cr FILM DEPOSITION RATE FOR ION BEAM SPUTTERING[J].Microfabrication Technology,1991(2):48-52. |
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| Authors: | Wang Yirong Chen Jin Xie Le He Heng Li Yuan and He Chenglie |
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| Keywords: | Ion beam sputtering rate of deposition normal distribution |
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