| TiAl合金表面阴极微弧制备的Al_2O_3膜结构与性能 |
| |
| 引用本文： | 李夕金,程国安,薛文斌,郑瑞廷,田华,程云君.TiAl合金表面阴极微弧制备的Al_2O_3膜结构与性能[J].粉末冶金材料科学与工程,2009,14(2). |
| |
| 作者姓名： | 李夕金 程国安 薛文斌 郑瑞廷 田华 程云君 |
| |
| 作者单位： | 1. 射线束技术及材料改性教育部重点实验室,北京师范大学,材料科学与工程系,北京,100875
2. 钢铁研究总院TiAl系金属间化合物研究中心,北京,100081 |
| |
| 摘 要： | 以Al(NO3)3乙醇溶液为电解液,采用阴极微弧放电沉积方法,在TiAl合金表面制备连续的Al2O3薄膜,并对膜的结构与性能进行研究.利朋扫描电镜(SEM)观察到样品表面分布着熔融状颗粒,颗粒的平均直径约20μm,颗粒中间有小孔存在.X射线衍射(XRD)分析表明氧化膜的相成分主要为α-Al2O3和γ-Al2O3相,还有少量的ε-Al2O3相;氧化膜中α-Al2O3和γ-Al2O3的相对含量随着制备电压改变而变化.显微划痕实验测得膜与TiAl基体之间结合力大于20 N,表明制得的氧化膜与基体有良好的结合力.900℃的高温氧化实验表明氧化膜能够有效地提高基体的抗氧化性能.
|
| 关 键 词： | 阴极微弧沉积 TiAl合金 Al2O3膜 岛温氧化 |
Structure and Properties of Al_2O_3 coating fabricated by cathodic microarc deposition on TiAl alloy |
| |
| LI Xi-jin,CHENG Guo-an,XUE Wen-bin,ZHENG Rui-ting,TIAN Hua,CHENG Yun-jun.Structure and Properties of Al_2O_3 coating fabricated by cathodic microarc deposition on TiAl alloy[J].materials science and engineering of powder metallurgy,2009,14(2). |
| |
| Authors: | LI Xi-jin CHENG Guo-an XUE Wen-bin ZHENG Rui-ting TIAN Hua CHENG Yun-jun |
| |
| Affiliation: | 1.Key Laboratory of Beam Technology and Material Modification of Ministry of Education;Department of Materials Science & Engineering;Beijing Normal University;Beijing 100875;China;2.Research Center of Ti-Al Intermetallic Compound;High Temperature Material Research Division;General Iron & Steel Research Institute;Beijing 100081;China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | cathodic microarc deposition TiAl alloy Al2O3 coating isothermal oxidation |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
