| (110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究 |
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| 引用本文： | 苏德志,赵全亮,李中翔.(110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究[J].北方工业大学学报,2014,26(1):44-48,94. |
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| 作者姓名： | 苏德志 赵全亮 李中翔 |
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| 作者单位： | 北方工业大学机电工程学院,100144,北京;北方工业大学机电工程学院,100144,北京;北方工业大学机电工程学院,100144,北京 |
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| 基金项目： | 北京市自然科学基金项目（3122013）、教育部科学技术研究重大项目（313007）、北京市教育委员会科技计划项目（KM201210009004）. |
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| 摘 要： | 运用射频溅射法在Si和LaNiO3/Si衬底上分别制备了高度(002)和(110)取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征,发现ZnO/LaNiO3/Si薄膜的(110)取向度高达96%,ZnO/Si薄膜为(002)择优取向,两种薄膜表面均致密平整,晶粒尺寸小于80nm.光致发光结果表明,ZnO/LaNiO3/Si薄膜的光致发光峰主要为带边发射的紫外光,而ZnO/Si薄膜的光致发光峰主要为过量氧导致的缺陷引起的缺陷发光峰.因此,采用LaNiO3薄膜作为ZnO在Si衬底上生长的过渡层,能够有效抑制缺陷发光,改善ZnO薄膜的发光性能.
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| 关 键 词： | 氧化锌薄膜 择优取向 射频溅射 光学性能 |
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