摘 要: | 一、前言 自从Mattox将辉光放电技术与蒸发镀膜技术相结合创立离子镀以来,在工业发达国家里,离子镀技术受到了极大的重视。目前,在各种有效的离子镇方法中,活性反应镀(ARE)工艺、空心阴极离子镀(HCD)工艺和磁控溅射离子镀工艺最引人注目。其中采用 HCD 工艺制成了各种超硬的化合膜,例如:TiN,TiC,Al2O3等膜。HCD法的TiN涂复工艺已在装饰镀膜、超硬工具、模具等方面得到了广泛地应用。 八十年代初,我所研制成功了空心阴极离子镀设备。主要用来镀表带、表壳等金黄色氮化钛装饰膜。在此基础上,又研制了TiN涂复刀具的HCD设备,并在TiN…
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