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| TiNi形状记忆薄膜的光刻新工艺 | |
| 引用本文： | 曲炳郡,李路明,王立鼎,夏善红.TiNi形状记忆薄膜的光刻新工艺[J].仪器仪表学报,2001,22(Z1):307-308. |
| 作者姓名： | 曲炳郡 李路明 王立鼎 夏善红 |
| 作者单位： | 1. 大连理工大学微机电系统研究中心 2. 中国科学院电子学研究所 |
| 摘 要： | TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一。研究了剥离工艺(lift\|off)用于TiNi薄膜图形化的可行性，并首次利用溅射的金属Pt作掩膜进行TiNi薄膜湿法腐蚀。结果表明溅射的Pt在HF/HNO3/H2O腐蚀TiNi过程中，具有抗腐蚀力强、与TiNi结合致密、不漂起的特点，是TiNi薄膜长时间腐蚀的理想掩膜材料。 |
| 关 键 词： | TiNi 形状记忆薄膜 光刻 Pt薄膜 MEMS |
Patterning of TiNi shape memory thin film with Pt mask for Mems |
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