| HfO2高激光损伤阈值薄膜的制备及特性研究 |
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| 引用本文： | 沈军,罗爱云,王生钊,欧阳玲,谢志勇,朱玉梅.HfO2高激光损伤阈值薄膜的制备及特性研究[J].武汉理工大学学报,2007,29(Z1):176-179. |
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| 作者姓名： | 沈军 罗爱云 王生钊 欧阳玲 谢志勇 朱玉梅 |
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| 作者单位： | 同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;国家高技术研究发展计划(863计划);上海科委纳米专项;教育部跨世纪优秀人才培养计划;上海市重点学科建设项目;上海市科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 采用水热合成技术,制备了HfO2胶体,用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜.采用XRD,椭偏仪,红外光谱(FTIR)等方法对薄膜进行了测试和表征,用输出波长为1 064 nm,脉宽为10 ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试其激光损伤阈值.研究了热处理温度对薄膜厚度、折射率、红外光谱、晶态以及激光损伤阈值的影响,并对薄膜的激光损伤形貌进行了分析.研究结果表明HfO2薄膜的折射率可达到1.655;采用150 ℃左右的温度对薄膜进行热处理可以提高薄膜的激光损伤阈值,此时薄膜的激光损伤阈值高达42.32 J/cm2(1 064 nm,10 ns),大大高于物理法制备的HfO2薄膜的激光损伤阈值(8.6 J/cm2,1 064 nm,12 ns).
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| 关 键 词： | HfO2薄膜 旋涂工艺 热处理 高折射率 激光损伤阈值 |
| 文章编号： | 1671-4431(2007)专辑Ⅰ-0176-04 |
Characterization and Preparation of Hafnia Films with High Laser-induced Damage Threshold |
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| SHEN Jun,LUO Ai-yun,WANG Sheng-zhao,OUYANG Ling,XIE Zhi-yong,ZHU Yu-mei.Characterization and Preparation of Hafnia Films with High Laser-induced Damage Threshold[J].Journal of Wuhan University of Technology,2007,29(Z1):176-179. |
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| Authors: | SHEN Jun LUO Ai-yun WANG Sheng-zhao OUYANG Ling XIE Zhi-yong ZHU Yu-mei |
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