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室温下Cu/3C—SiC(111)界面形成的研究
引用本文:刘衍芳,李亮,刘金锋,刘忠良,徐彭寿,徐法强,潘海斌.室温下Cu/3C—SiC(111)界面形成的研究[J].真空科学与技术学报,2009,29(1).
作者姓名:刘衍芳  李亮  刘金锋  刘忠良  徐彭寿  徐法强  潘海斌
作者单位:中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥,230029
摘    要:用同步辐射光电子能谱(SRPES)和X射线光电子能谱(XPS)的方法研究了室温下Cu/3C-SiC (111) 界面的形成.在超高真空下,Cu慢慢沉积到2ML.Cu2p3/2用XPS测得,结合能从沉积0.08ML时的933.1eV移动到沉积2ML的932.8eV,Si2p用同步辐射光测得,峰位从未沉积时的43.55eV移动到沉积2ML的43.87eV,峰形状未发生变化,表明Cu与衬底之间没有发生化学反应,薄膜的生长开始为二维生长,超过0.1ML时变为三维生长,SiC的表面有表面态存在,当沉积少量的Cu时,表面态消失.随着Cu的沉积价带(VB)发生弯曲,肖特基势垒高度增加,在沉积2ML Cu时肖特基势垒变为1.2eV.

关 键 词:界面  肖特基势垒  同步辐射光电子能谱

Initial Stage of Cu/3C-SiC(111) Interface formation at Room Temperature
Liu Yanfang,Li Liang,Liu Jinfeng,Liu Zhongliang,Xu Pengshou,Xu Faqiang,Pan Haibin.Initial Stage of Cu/3C-SiC(111) Interface formation at Room Temperature[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2009,29(1).
Authors:Liu Yanfang  Li Liang  Liu Jinfeng  Liu Zhongliang  Xu Pengshou  Xu Faqiang  Pan Haibin
Abstract:
Keywords:Cu  3C-SiC
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