| 磁控溅射最佳工艺参数的研究 |
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| 引用本文： | 黄建民,高瑞珍. 磁控溅射最佳工艺参数的研究[J]. 表面技术, 1989, 0(4): 7-11 |
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| 作者姓名： | 黄建民 高瑞珍 |
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| 作者单位： | 北京科技大学，北京科技大学 |
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| 摘 要： | 本文通过引拉法测定不锈钢靶材磁控溅射薄膜的结合力,获得了不锈钢靶材的磁控溅射最佳工艺参数,其值为:基材加热温度:800℃,氩压:4×10~(-3)Torr;偏压:-200V;溅射时间:1(?)～2.0h。
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| 关 键 词： | 不锈钢 磁控溅射 工艺参数 靶材 |
Studies on Optimum Process Parameter of Magnetic Control Sputtering from Stainless Steel Target Material |
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| Huang Jianmin and Gao Ruizhen. Studies on Optimum Process Parameter of Magnetic Control Sputtering from Stainless Steel Target Material[J]. Surface Technology, 1989, 0(4): 7-11 |
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| Authors: | Huang Jianmin and Gao Ruizhen |
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| Affiliation: | Beijing College of Science and Technology |
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| Keywords: | Stainless steel magnetic control sputtering |
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