| 电子束物理气相沉积制备纳米晶Ni-20Cr-0．6Al合金在1000℃的氧化行为 |
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| 引用本文： | 关春龙,赫晓东,李垚,易剑.电子束物理气相沉积制备纳米晶Ni-20Cr-0．6Al合金在1000℃的氧化行为[J].稀有金属材料与工程,2006,35(5):715-718. |
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| 作者姓名： | 关春龙 赫晓东 李垚 易剑 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001 |
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| 摘 要： | 利用电子束物理气相沉积（EB-PVD）方法制备了厚度为0．5mm的Ni-20Cr-0．6Al合金薄板，晶粒尺寸小于100nm。研究了Ni-20Cr-0．6Al合金在1000℃空气中的氧化行为。结果表明：氧化100h后在合金表面只生成了连续致密的α-Al2O3氧化膜。纳米化使得在Cr含量为20％时，要生成连续的Al2O3膜所需的最小铝含量大幅度下降。纳米晶Ni-20Cr-0.6Al合金1000℃氧化时的动力学曲线符合四次方规律，其氧化性能明显优于普通晶粒的Ni-20Cr-0．6Al合金。
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| 关 键 词： | 电子束物理气相沉积 氧化 |
| 文章编号： | 1002-185X(2006)05-0715-04 |
| 收稿时间： | 2005-05-01 |
| 修稿时间： | 2005年5月1日 |
Oxidation Behavior at 1000℃ for Nanocrystalline Ni-20Cr-0.6Al Alloy Deposited by EB-PVD |
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| Guan Chunlong,He Xiaodong,Li Yao,Yi Jian.Oxidation Behavior at 1000℃ for Nanocrystalline Ni-20Cr-0.6Al Alloy Deposited by EB-PVD[J].Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(5):715-718. |
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| Authors: | Guan Chunlong He Xiaodong Li Yao Yi Jian |
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| Affiliation: | Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ni-20Cr-0 6Al |
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